이 글은 차동 증폭기 설계에서 주파수 응답이 포함된 글입니다.
2021.10.27 - [전공(Major)/전자회로와 아날로그 회로설계] - 차동 증폭기 설계(Differential amplifier design)
설계 절차
1. 토폴로지 선택(저항, 캐스코드, 축퇴형)
- 제일 간단한 저항성 부하를 먼저 선택하는 것이 좋다.
2. Length를 선택
- 해당 공정에서 제공하는 가장 낮은 L을 선택하는 것이 좋다.
3. Vov를 선택
4. 키 디자인 방정식으로 부터 드레인 전류를 구한다.
5. 바이어스 전류를 위한 W와 부하저항을 계산한다.
1) W
2) 부하저항
목표
Capacitive Loading CL로 구동되는 차동 전압 증폭기를 설계하고 GBW를 만족시키는것
(GBW=A*w_BW ... w_BW =2*pi*f_BW)
키 디자인 방정식
이득과 대역폭(f_BW)을 만족하고 CL을 구동시키기 위한 바이어스 전류(Iss)의 크기를 찾아야한다.
1-1) 이득
사진 2와 같이 절반회로를 적용하면 CS Amp에서 얻었던 전압 이득을 알 수 있다.
지난 포스팅에서 구했던 cs amp의 이득은 식 1과 같다.
DC gain은 gmRD임을 다시 상기하는 것도 중요하다.
1-2) 대역폭(BandWidth)
대역폭은 식 2와 같으며 해당 과정은 지난 설계에서도 여러번 반복했음으로 자세한 과정은 생략한다.
CDD는 아래와 같다
w_BW의 dominant pole(주 극점)은 식 1과 2에서 알 수 있다.
Zero(영점)는 아래와 같다.
여기서 중요한 점은 영점은 식 2보다 매우 커야하는데
첫번째는 전압이득을 1보다 크게 설계하기 위해서는 드레인 저항이 1/gm보다 훨씬 크기 때문이며
두번째로 극점은 기생 커패시턴스의 합과 드레인 저항의 곱으로 표현되기 때문에 아래와 같은 관계가 성립된다.
위와 같은 이유로 현재 차동 증폭기의 대역폭에서 zero(영점)의 영향을 무시할 수 있다.
마지막으로 이득 대역폭곱(GBW)을 아래와 같이 표현 가능하다.
1-3) 드레인 전류 Id
결과부터 말하자면 식 6으로 표현 가능하다 증명과정을 중간에 넣게 되면 번잡할 수 있으니 증명과정을 아래에 첨부할 것이다.
식 6을 통해 분자는 기존에 포스팅한 차동증폭기의 드레인 전류 식과 동일하지만 분모가 새로 추가됨을 알 수 있으며 분모의 항이 0에 가까워질수록 드레인 전류가 증가함을 알 수 있다.
자세한 내용은 맨 하단에 부록 1에 자세히 언급이 되어 있으니 호기심이 생긴다면 읽어보는 것이 좋다.
MOSFET가 Long-Channel Device인 경우 Id=0.5µCox(W/L)Vov^2 로 표현이 가능하며 gm은 드레인 전류를 미분한 형태임을 mos 물리에서 알 수 있었다. CDD=C_d0*W로 표현가능하다.
따라서 식을 아래와 같이 Long Channel Device로 표현한 수식으로도 표현가능하다.
본인이 원하고자 하는 GBW가 매우 낮은 경우에는 차동 증폭기 설계 포스팅에서 알 수 있듯이(식6의 분자)로 간략한 형태로 표현 가능하다.(Id=GBWVovCL/2)
그리고 드레인 전류를 키우기 위해 Vov를 키우면 전력소모는 증가하지만 트랜지스터는 좀 더 빨라진다.
추가적인 요소로 식 6의 분모항을 천이 주파수형태의 꼴로 표현이 가능하다.
다이오드 연결 부하를 가지는 차동 증폭기
아래 회로를 간단하게 알아보자.
기존의 CDD가 어떤 값을 변경되었는지 확인해 볼 수 있다.
드레인 전류는 아래와 같이 나오게 된다.
식 9에서 CINT는 진성 커패시턴스(도는 Self 커패시턴스)를 의미하며 식 9를 통해 다이오드 부하를 가지는 경우 부하 저항을 사용하는 것보다 좋지 못한 성능을 가지고 있음을 알 수 있다.
저항성 부하를 사용하는 경우는 진성 커패시턴스는 아래와 같다
Long-Channel Device인 경우
식 11은 식 7과 유사함을 알 수 있으며, d의 표기는 i 즉 진성(intrinsic)을 표현한다.
키 디자인 방정식 - 최적의 Vov
식 11 우항을 보게 되면 Vov 외에는 공정에 관한 항들임을 알 수 있다.
따라서 드레인 전류를 최소화하는 최적의 Vov 전압이 필요하다.
미분한 양이 0이 되어야 최적 지점이다.
따라서 최적의 Vov는 아래와 같다.
하지만 여기서 문제점이 있는데 Vov<50mV 이하일 때, 게이트-소스 전압(Vgs)는 문턱전압에 진입할 때 약 반전 영역이기 때문인 문제점을 포함하여 여러가지 문제들을 가지기 때문에 최소 100mV 를 인가해주어야 안정적인 동작이 가능하다.
따라서 Vov 최적화의 조건은 아래와 같다
식 14의 우항은 Vov,opt는 50mV 임을 상기하자
Id 증명과정
식 5에서 gm은 아래와 같이 표현 가능하다.
유도를 하기 위해 GBW의 역수를 표현하면 아래와 같다.
증명 3과 같이 정리하고 증명 1을 생각하여 정리하면 아래와 같이 Id에 관해 식을 쓸 수 있다.
분모 분자에 GBW/2를 곱해주면 아래 Id에 대한 결과가 나오게 된다.
부록 1. 식 6의 분모항(1-GBW*CDD/gm)
식 6을 통해 알 수 있었던 점은 GBW*CDD/gm=1이 되는 경우 드레인 전류(id)가 무한대로 폭팔하듯이 상승한다는 것이다.
다시 말해서 GBW가 gm/Cdd와 같아지는 지점이 된다면 드레인 전류는 급격하게 상승할 것을 의미한다.
그 다음으로 gm/CDD는 공정에 의존하는 파라미터임을 알 수 있다.
따라서 아래와 같이 표현이 가능하다
gm/W는 트랜스컨덕턴스 PER 폭이며 CDD/W는 기생 드레인 커패시턴스 PER 폭이다. 전자는 클수록 좋고, 후자는 작을수록 좋다.(대게 CDD/W= 1 ~ 2 fF/um 이다.)
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